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集成电路芯片超纯水设备

  • 半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路

  半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。

  

集成电路芯片超纯水设备

 

  集成电路芯片超纯水设备原理

  电去离子EDI超纯水系统是利用混和离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子,被吸附的离子在直流电压的作用下,分别透过阴阳离子交换膜而被除去的过程。电渗析器的一对电极之间,通常由阴膜,阳膜和隔板多组交替排列,构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜,阴离子可透过阴膜).淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜,被浓室中的阴膜截留;水中阴离子向正极方向迁移阴膜,被浓室中的阳膜截留,这样通过淡室的水中离子数逐渐减少,成为淡水,而浓室的水中,由于浓室的阴阳离子不断涌进,电介质离子浓度不断升高,而成为浓水,从而达到淡化,提纯,浓缩或精制的目的。这一过程离子交换树脂是电连续再生的,因此不需要使用酸和碱对之再生。制取超纯水的这一新技术可以替代传统的离子交换装置,生产出高达18M-CM的超纯水。

  集成电路芯片超纯水设备优势及特点

  1、工作压力高,不漏水:由于模块采用了橡胶O型圈多层密封,保证了模块耐压高、不漏水。

  2、无化学物质使用:由于浓水中填充了技术树脂,降低了膜电阻,因此系统中不需要浓水循环及注盐在淡水室填充分层排列树脂,更有利于弱电解质的祛除。

  3、系统简单,配管简单,仅需3支配管(进水管,产品水管和浓水管),无循环泵及注盐系统,不需要 PLC 程序控制器,系统建造成本和维护费用低。

  4、浓水回收,浓水水质(20-100μS/cm )优于原水水质,可回收至RO前继续使用。

  5、其他优势,系统不注盐,因此不产生氯气破坏模块内部结构及污染周围环境,独立的模块电源控制,单一模块需维修,不影响其他模块正常工作。

  EDI超纯水系统的应用领域

  EDI超纯水系统适用于电子、半导体、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路、精密机械行业超纯水,食品、饮料、饮用水的制备,精细化工、精尖学科用水,其他行业所需的高纯水制备,制药工业工艺用水,海水、苦咸水的淡化,制药行业用水大输液、针剂、片剂、生化制品、设备清洗等,海水、苦咸水淡化,汽车、家电涂装、镀膜玻璃、化装品、精细化学品等用超纯水。

  莱特莱德水处理设备工程有限公司制造的超纯水设备,小型超纯水设备,超纯水设备经常用于微电子工业、半导体工业、发电工业、制药行业和实验室,也可以作为制药蒸馏水、食物和饮料生产用水、精细化工厂工艺用水,以及其它超纯水应用领域。

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