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15t/h芯片清洗用超纯水设备

  • 莱特莱德太原水处理设备公司生产的芯片清洗用超纯水设备采用了先进的工程技术,并结合了特殊而的产品设计,产品质量与性能均为上乘。

  (一)、15t/h芯片清洗用超纯水设备的设备概述

  现在电子行业的快速发展离不开芯片,如果长时间使用芯片上会积累大量的灰尘,会导致电子产品不能继续使用。我们莱特莱德太原水处理设备公司生产的芯片清洗用超纯水设备采用先进的电渗析与离子交换相结合的技术,克服了单一技术的缺点,完美的结合了两种技术的优点,满足实际的生产需要。莱特莱德太原水处理设备公司生产的芯片清洗用超纯水设备采用了先进的工程技术,并结合了特殊而的产品设计,产品质量与性能均为上乘。
 

超纯水设备
超纯水设备


  (二)、15t/h芯片清洗用超纯水设备的工作原理

  电去离子(EDI)系统主要是在直流电场的作用下,通过隔板的水中电介质离子发生定向移动,利用交换膜对离子的选择透过作用来对水质进行提纯的一种科学的水处理技术。电渗析器的一对电极之间,通常由阴膜,阳膜和隔板(甲、乙)多组交替排列,构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜,阴离子可透过阴膜)。

  淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜,被浓室中的阴膜截留,水中阴离子向正极方向迁移阴膜,被浓室中的阳膜截留,这样通过淡室的水中离子数逐渐减少,成为淡水,而浓室的水中,由于浓室的阴阳离子不断涌进,电介质离子浓度不断升高,而成为浓水,从而达到淡化、提纯、浓缩或精制的目的。
 

芯片清洗用超纯水设备
芯片清洗用超纯水设备


  (三)、15t/h芯片清洗用超纯水设备的设备优点

  1、无需酸碱再生:在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生,而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作。保护了环境。

  2、连续、简单的操作:在混床中由于每次再生和水质量的变化,使操作过程变得复杂,而EDI的产水过程是稳定的连续的,产水水质是恒定的,没有复杂的操作程序,操作大大简便化。

  3、降低了安装的要求:EDI系统与相当处理水量的混床相比,有较小的体积,它采用积木式结构,可依据场地的高度和灵活的构造。模块化的设计,使EDI在生产工作时能方便维护。

  (四)、15t/h芯片清洗用超纯水设备的工艺流程

  1、采用离子交换方式,其流程如下:

  原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点

  2、采用两级反渗透方式,其流程如下:

  原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透→PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点

  3、采用EDI方式,其流程如下:

  原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点
 

15t/h芯片清洗用超纯水设备
15t/h芯片清洗用超纯水设备


  莱特莱德太原水处理设备公司多年发展以来早已形成一套完善的管理体系,在引进国外先进的生产技术的同时我们还注重企业的科技创新,不断的完善我们公司的生产技术,为客户提供质量上乘的产品。莱特莱德太原水处理设备公司一直秉承着“专业诚信质量”的经营理念,立志成为水处理行业一流供应商品牌,为我们公司以后的发展打下良好的基础。

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