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硅晶片制造用除盐水设备

  • 莱特莱德太原水处理设备公司专业提供硅晶片制造用除盐水设备,为广大人们提供全方位的技术与解决方案,欢迎广大用户前来咨询。

  硅晶片制造用除盐水设备概述

  硅晶片制造用除盐水设备采用阳阴离子交换树脂取得的去离子水,一般通过之后,出水电导率可降到10us/cm以下,再经过混床就可以达到1us/cm以下了。莱特莱德太原水处理设备公司以高科技、高质量为前提,引进先进的除盐水设备处理技术,让我们为您排忧解难,您的满意是我们的宗旨。

  硅晶片制造用除盐水设备原理

  EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开,形成浓水室。又在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电的推动下,通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统,成为浓水。
 

除盐水设备
除盐水设备

  硅晶片制造用除盐水设备的工艺

  第一种:预处理(即砂碳过滤器+精密过滤器)+反渗透+混床工艺

  这种方法是目前采用多的,因为反渗透投资成本也不算高,可以去除水中离子,剩下的离子再通过混床交换除去,这样可使出水电导率:0.06左右。这样是目前流行的方法。

  第二种:前处理与第二种方法一样使用反渗透,只是后面使用的混床采用EDI连续除盐膜块代替,这样就不用酸碱再生树脂,而是用电再生。这就彻底使整个过程无污染了,但这这种方法的前期投资比较多,运行成本低。
 

除盐水设备图片
除盐水设备

  硅晶片制造用除盐水设备的进水指标

  PH:6.0~9.0,当总硬度低于0.1ppm时,EDI工作的pH范围为8.0~9.0

  温度:5~35℃

  进水压力:<4bar(60psi)

  硬度:(以CaCO3计):<1.0ppm

  有机物(TOC):<0.5ppm

  氧化剂:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm

  变价金属:Fe<0.01ppm,Mn<0.02ppm
 

除盐水设备高清图片
除盐水设备

  硅晶片制造用除盐水设备的特点

  1、设备运行周期长短和进盐量可根据原水硬度的高低选择调整,树脂用量少,盐耗低,水质优,操作简单,维护方便。

  2、设备适应性强,对高硬度原水(≤28mmol/l)一次软化后软化水残余硬度≤0.03mmol/l。

  3、设备连续产水,不需备用交换器,不需另设盐池盐泵和压力容盐器。

  4、设备重量轻,占地面积小,不需专用厂房,不需砼基础,土建、购置、安装、运行、维护费用低。

  5、设备出厂已装填树脂,安装简便,只需接通进出水管和电源,即可开机产软水。

  6、设备节能效果显著,与同类产品相比,并减轻环境污染。

  莱特莱德太原水处理设备公司不仅提供硅晶片制造用除盐水设备,还提供其它的除盐水设备。莱特莱德太原水处理设备公司真诚与客户合作,把客户的事情当作自己的事情,为客户的水处理方面的问题排忧解难,并做好售后服务。我们的目标是给用户提供值得信赖的工程设计和技术支持,提供可靠、高性价比的系统解决方案。

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